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    M864905 244193-48-4 1-甲基-3-丙基咪唑四氟硼酸盐, ≥98%
    1-Methyl-3-propylimidazolium Tetrafluoroborate, ≥98%
    C7H13BF4N2
    T868053 219508-27-7 2-[5-(三氟甲基)-1H-1,2,4-三唑-3-基]吡啶, ≥98%
    2-[5-(Trifluoromethyl)-1H-1,2,4-triazol-3-yl]pyridine, ≥98%
    C8H5F3N4
    T819988 12039-88-2 二硅化钨, -325 目, 99.5%
    Tungsten silicide, -325 目, 99.5%
    WSi2
    C805804 12018-09-6 二硅化铬, -230 目, ≥99% metals basis
    Chromium silicide, -230 目, ≥99% metals basis
    CrSi2
    T819980 12007-35-1 二硼化钽, 99.5%
    Tantalum boride, 99.5%
    TaB2
    A801464 12041-50-8 二硼化铝, 99%,粒径15μm
    Aluminum diboride, 99%,粒径15μm
    AlB2
    L887821 12008-21-8 六硼化镧, 99.95%
    Lanthanum hexaboride, 99.95%
    LaB6
    L887822 12008-21-8 六硼化镧, 500 目, 99.9%
    Lanthanum hexaboride, 500 目, 99.9%
    LaB6
    L812634 12008-21-8 六硼化镧, 粉末, -325 目, 99.5% metals basis
    Lanthanum hexaboride, 粉末, -325 目, 99.5% metals basis
    LaB6
    T819982 12033-62-4 氮化钽, 99.5% metals basis
    Tantalum nitride, 99.5% metals basis
    TaN
    I812065 25617-98-5 氮化铟(III), 99.9% metals basis
    Indium(III) nitride, 99.9% metals basis
    InN
    Z820820 25658-42-8 氮化锆, 99% metals basis,400目
    Zirconium nitride, 99% metals basis,400目
    ZrN
    G810665 25617-97-4 氮化镓, 99.99% metals basis
    Gallium nitride, 99.99% metals basis
    GaN
    T820020 12045-63-5 硼化钛, 99.9% metals basis,3-5μm
    Titanium boride, 99.9% metals basis,3-5μm
    TiB2
    T819981 12007-09-9 硼化钨, 99%
    Tungsten boride, 99%
    WB
    N815014 12045-19-1 硼化铌, 99.5%
    Niobium monoboride, 99.5%
    NbB
    H811442 12007-23-7 硼化铪, 99% (metals basis excluding Zr), Zr <2%
    Hafnium boride, 99% (metals basis excluding Zr), Zr <2%
    HfB2
    C805799 12012-35-0 碳化铬, 99.5% metals basis
    Chromium carbide, 99.5% metals basis
    Cr3C2
    I812061 22398-80-7 磷化铟, 片状, 3-20 目, 99.998% metals basis
    Indium(III) phosphide, 片状, 3-20 目, 99.998% metals basis
    InP
    G810666 12063-98-8 磷化镓, 99.99% metals basis
    Gallium phosphide, 99.99% metals basis
    GaP
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